10月30日，巴斯夫宣布將在德國路德維希港增設一座先進的電子級氫氧化銨（NH4OH EG）生產裝置。該裝置將用于支持晶圓清洗、蝕刻及其他半導體制造中的精密工藝。這一關鍵的超純化學品將助力歐洲半導體企業的成長與擴張，確保先進芯片生產所需的本地供應鏈穩定。全新生產裝置預計將于 2027 年投入運營。

隨著歐洲多個全新芯片生產裝置的建設或擴建，市場對高質量、高純度半導體級化學品（如氫氧化銨）的需求與日俱增。這一需求受到巴斯夫一家密切合作伙伴的加速推動，他們目前正在歐洲建設新的芯片生產裝置。巴斯夫此次投資半導體化學品價值鏈主要基于與其戰略合作伙伴之間長期互信的客戶與供應商承諾。

新裝置生產的電子級氫氧化銨將廣泛應用于先進制程芯片技術，推動下一代半導體的發展，對歐洲關鍵產業（如汽車、人工智能等）意義重大。將在推動半導體產業發展與為歐洲經濟作出貢獻方面發揮重要作用。

巴斯夫高級副總裁、全球電子材料業務負責人黎博曼（Jens Liebermann）表示：“客戶將巴斯夫視為其在市場發展中的長期戰略合作伙伴，這樣的信任使我們深感榮幸與感謝。”巴斯夫全球營運總裁葛畢萊（Gops Pillay）補充道：“這項新投資不僅提升了我們的技術能力，也進一步彰顯了我們對歐洲半導體產業的堅定承諾與深度參與。”

巴斯夫是向半導體行業提供高純度單一散裝化學品和專用化學配方的全球領先供應商，這些化學品對于半導體制造至關重要。巴斯夫提供全面的材料產品組合，主要用于半導體生產工藝，包括清洗、蝕刻、光刻、金屬沉積和化學機械拋光等。